SAMURAI - NIMS Researchers Database

HOME > Presentation > Detail

ヘリウムイオン照射グラフェンにおける磁気抵抗のドーズ量依存性

中村 周, 岩崎 拓哉, マノハラン ムルガナタン, 赤堀 誠志, 守田 佳史, 森山 悟士, 小川 真一, 若山 裕, 水田 博, 中払 周.
第66回応用物理学会春季学術講演会. 2019.

NIMS author(s)

Fulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)

    Created at: 2020-01-09 03:00:25 +0900Updated at: 2020-01-09 03:00:25 +0900

    ▲ Go to the top of this page