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NIMS Award Symposium 2026

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ヘリウムイオン照射グラフェンにおける磁気抵抗のドーズ量依存性

中村 周, 岩崎 拓哉, マノハラン ムルガナタン, 赤堀 誠志, 守田 佳史, 森山 悟士, 小川 真一, 若山 裕, 水田 博, 中払 周.
第66回応用物理学会春季学術講演会. March 09, 2019-March 12, 2019.

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    Created at: 2020-01-09 03:00:25 +0900 Updated at: 2020-01-09 03:00:25 +0900

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