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Siナノワイヤ中にドープしたPおよびBの熱酸化過程での偏析挙動
(Segregation of P and B in Si nanowires during thermal oxidation)

深田 直樹, 瀬岡雅典, 齋藤直之, 陳 君, 関口 隆史, 村上浩一.
春季第56回応用物理学会学術講演会. 2009.

NIMS著者


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    作成時刻 :2017-02-14 10:57:01 +0900 更新時刻 :2017-07-10 20:28:56 +0900

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