HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Siナノワイヤ中にドープしたPおよびBの熱酸化過程での偏析挙動(Segregation of P and B in Si nanowires during thermal oxidation)深田 直樹, 瀬岡雅典, 齋藤直之, 陳 君, 関口 隆史, 村上浩一. 春季第56回応用物理学会学術講演会. 2009.NIMS著者深田 直樹陳 君Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻 :2017-02-14 10:57:01 +0900 更新時刻 :2017-07-10 20:28:56 +0900