HOME > Presentation > DetailSiナノワイヤ中にドープしたPおよびBの熱酸化過程での偏析挙動(Segregation of P and B in Si nanowires during thermal oxidation)深田 直樹, 瀬岡雅典, 齋藤直之, 陳 君, 関口 隆史, 村上浩一. 春季第56回応用物理学会学術講演会. March 30, 2009-April 01, 2009.NIMS author(s)FUKATA, NaokiCHEN, JunFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-02-14 10:57:01 +0900 Updated at: 2017-07-10 20:28:56 +0900