HOME > Presentation > Detail原子層堆積法の成長条件がAl2O3膜の特性へ及ぼす影響(Influence of growth condition of atomic layer deposition on characteristics of Al2O3 films)生田目 俊秀, 木村将之, 弓削 雅津也, 井上 万里, 池田 直樹, 大石知司, 大井 暁彦. 2018春期(第162回)日本金属学会講演大会. March 19, 2018-March 21, 2018.NIMS author(s)NABATAME, ToshihideIKEDA, NaokiOHI, AkihikoFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2018-01-18 22:01:42 +0900 Updated at: 2018-06-05 14:17:16 +0900