HOME > 口頭発表 > 書誌詳細原子層堆積法の成長条件がAl2O3膜の特性へ及ぼす影響(Influence of growth condition of atomic layer deposition on characteristics of Al2O3 films)生田目 俊秀, 木村将之, 弓削 雅津也, 井上 万里, 池田 直樹, 大石知司, 大井 暁彦. 2018春期(第162回)日本金属学会講演大会. 2018.NIMS著者生田目 俊秀弓削 雅津也池田 直樹大井 暁彦Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2018-01-18 22:01:42 +0900更新時刻: 2018-06-05 14:17:16 +0900