HOME > 口頭発表 > 書誌詳細原子層堆積法の成長条件がAl2O3膜の特性へ及ぼす影響(Influence of growth condition of atomic layer deposition on characteristics of Al2O3 films)生田目 俊秀, 木村将之, 弓削 雅津也, 井上 万里, 池田 直樹, 大石知司, 大井 暁彦. 2018春期(第162回)日本金属学会講演大会. 2018年03月19日-2018年03月21日.NIMS著者生田目 俊秀池田 直樹大井 暁彦Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2018-01-18 22:01:42 +0900 更新時刻: 2018-06-05 14:17:16 +0900