HOME > 口頭発表 > 書誌詳細ダイレクト式大気圧プラズマCVD法によるGaN薄膜の低温成長における水素添加の効果(The Hydrogen Effect on GaN film Growth by Near-Atmospheric Plasma-Assisted Chemical Vapor Deposition)長田 貴弘, 佐久間 芳樹, 南風盛 将光, 安西純一郎, 上原剛, 知京 豊裕. 2008年春季 第55回応用物理学関係連合講演会 . 2008.NIMS著者長田 貴弘佐久間 芳樹知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:30:38 +0900更新時刻: 2017-07-10 20:09:59 +0900