HOME > 口頭発表 > 書誌詳細MRAM 製造ラインに向けた垂直磁化 CoFeB 薄膜の全光学的磁化ダイナミクス計測佐々木 悠太, 杉本 聡志, 葛西 伸哉, 温 振超, 三谷 誠司, 高橋 有紀子. 日本電子材料技術協会 2024年度第61回秋季講演大会. 2024年10月28日-2024年10月29日.NIMS著者佐々木 悠太杉本 聡志葛西 伸哉温 振超三谷 誠司高橋 有紀子Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2024-11-27 17:36:53 +0900更新時刻: 2024-11-27 17:36:53 +0900