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NIMS一般公開2024

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研究内容

Keywords

スピントロニクス

出版物2004年以降のNIMS所属における研究成果や出版物を表示しています。

論文

所属学会

応用物理学会, 日本磁気学会

磁性・スピントロニクス材料研究センター
タイトル

次世代スピントロニクス技術に向けた新規材料の開発

キーワード

磁気抵抗,スピン軌道トルク,電圧制御磁気異方性,ホイスラー合金,磁気トンネル接合,トポロジカル材料

概要

ホイスラー合金薄膜を用いた磁気接合による垂直磁化高磁気抵抗デバイス開発
新材料を用いた磁気トンネル接合における磁気異方性の電圧制御メカニズムの解明
ホイスラー合金とトポロジカル材料によるスピントロニクスヘテロ構造におけるスピン流とスピン軌道トルクの研究

新規性・独創性

ホイスラー合金薄膜を用いた磁気トンネル接合における大きな垂直磁気異方性、高いトンネル磁気抵抗、大きな電圧制御磁気異方性
ホイスラー合金やトポロジカル材料を用いたスピントロニクスヘテロ構造におけるスピン流発生とスピン軌道トルクの高効率化、磁化反転
先端成膜技術による高品質薄膜の成膜と界面制御

内容

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ホイスラー合金やトポロジカル材料を用いて、高度な成膜技術と界面制御により、スピントロニクスヘテロ構造を開発する。大きな垂直磁気異方性と高いトンネル磁気抵抗を持つ磁気接合デバイスを実現し、スピントロニクデバイスの読み出しプロセスに貢献する。また、電圧制御磁気異方性、スピン流発生、スピン軌道トルクによる磁化反転の高効率化を実現し、デバイスの書き込みプロセスにおける低消費電力化に寄与する。これにより、スピントロニクスデバイスをより効率的に、より高性能に動作させることが期待される。

まとめ

先端成膜技術による高品質な薄膜の成膜と界面制御により、ホイスラー合金やトポロジカル材料を用いたスピントロニクスヘテロ構造を開発し、磁気接合素子における大きな垂直磁気異方性、高いトンネル磁気抵抗、大きな電圧制御磁気異方性、さらにスピン流発生やスピン軌道トルク、磁化スイッチングの高効率化を実現させる。次世代スピントロニクスデバイスの性能向上への活用が期待される。

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