HOME > Profile > WEN, ZhenChao
- TEL
- 2250
- Address
- 305-0047 1-2-1 Sengen Tsukuba Ibaraki JAPAN [Access]
Research
- Keywords
スピントロニクス
PublicationsNIMS affiliated publications since 2004.
Society memberships
応用物理学会, 日本磁気学会
Research Center for Magnetic and Spintronic Materials
Title
次世代スピントロニクス技術に向けた新規材料の開発
Keywords
磁気抵抗,スピン軌道トルク,電圧制御磁気異方性,ホイスラー合金,磁気トンネル接合,トポロジカル材料
Overview
● ホイスラー合金薄膜を用いた磁気接合による垂直磁化高磁気抵抗デバイス開発
● 新材料を用いた磁気トンネル接合における磁気異方性の電圧制御メカニズムの解明
● ホイスラー合金とトポロジカル材料によるスピントロニクスヘテロ構造におけるスピン流とスピン軌道トルクの研究
Novelty and originality
● ホイスラー合金薄膜を用いた磁気トンネル接合における大きな垂直磁気異方性、高いトンネル磁気抵抗、大きな電圧制御磁気異方性
● ホイスラー合金やトポロジカル材料を用いたスピントロニクスヘテロ構造におけるスピン流発生とスピン軌道トルクの高効率化、磁化反転
● 先端成膜技術による高品質薄膜の成膜と界面制御
Details
Summary
先端成膜技術による高品質な薄膜の成膜と界面制御により、ホイスラー合金やトポロジカル材料を用いたスピントロニクスヘテロ構造を開発し、磁気接合素子における大きな垂直磁気異方性、高いトンネル磁気抵抗、大きな電圧制御磁気異方性、さらにスピン流発生やスピン軌道トルク、磁化スイッチングの高効率化を実現させる。次世代スピントロニクスデバイスの性能向上への活用が期待される。
この機能は所内限定です。
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