HOME > 口頭発表 > 書誌詳細ポーラスアルミナをマスクに用いたInPのドライエッチング(InP etching with porous alumina mask)加藤 誠一, 後藤 敦, 瀧澤 智恵子, 池田 直樹, 杉本 喜正. 2009年秋季 第70回 応用物理学会 学術講演会. 2009.NIMS著者加藤 誠一後藤 敦池田 直樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 04:25:53 +0900更新時刻: 2017-07-10 20:33:54 +0900