HOME > Presentation > Detailポーラスアルミナをマスクに用いたInPのドライエッチング(InP etching with porous alumina mask)加藤 誠一, 後藤 敦, 瀧澤 智恵子, 池田 直樹, 杉本 喜正. 2009年秋季 第70回 応用物理学会 学術講演会. September 08, 2009-September 11, 2009.NIMS author(s)KATO, SeiichiGOTO, AtsushiIKEDA, NaokiFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-01-08 04:25:53 +0900Updated at: 2017-07-10 20:33:54 +0900