High temperature in situ AFM/STM observation of decomposition and cleaning process of ultrathin SiO2 films on Si(111) surfaces i
18th International Vacuum Congress. 2010年08月23日-2010年08月27日.
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作成時刻: 2017-01-08 04:31:29 +0900 更新時刻: 2017-07-10 20:52:56 +0900