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研究内容
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ナノ材料 薄膜・表面界面物性
出版物2004年以降のNIMS所属における研究成果や出版物を表示しています。
論文
- Chikako Sakai, Nobuyuki Ishida, Shoko Nagano, Keiko Onishi, Daisuke Fujita. In situ voltage-application system for active voltage contrast imaging in helium ion microscope. Journal of Vacuum Science & Technology B. 36 [4] (2018) 042903 10.1116/1.5031086
- Shuang Xie, Mingsheng Xu, Shuyun Huang, Tao Liang, Shengping Wang, Hongfei Li, Hideo Iwai, Keiko Onishi, Nobutaka Hanagata, Daisuke Fujita, Xiangyang Ma, Deren Yang. Inhomogeneous composition distribution in monolayer transition metal dichalcogenide alloys. Materials Research Express. 4 [4] (2017) 045004 10.1088/2053-1591/aa6859
- Hongxin Wang, Hideki Masuda, Hideaki Kitazawa, Keiko Onishi, Masamichi Kawai, Daisuke Fujita. Advanced in situ multi-scale characterization of hardness of carbon-fiber-reinforced plastic. Japanese Journal of Applied Physics. 55 [10] (2016) 106602 10.7567/jjap.55.106602
会議録
- 大西 桂子, 藤田 大介. ＡＦＭ像探針形状効果補正のための標準ナノ粒子法とブラインド法の比較. Journal of the Vacuum Society of Japan. 2010, 357-360
- FUJITA, Daisuke, ONISHI, Keiko, XU, Mingsheng. Standardization of nanomaterials characterization by scanning probe microscopy for societal acceptance. JOURNAL OF PHYSICS：CONFERENCE SERIES. 2009, 012002-1-012002-6
- 大西 桂子, 藤田 大介. ナノ粒子を利用したＡＦＭ像の探針先端形状効果の補正. JOURNAL OF THE VACUUM SOCIETY OF JAPAN. 2008, 165-168
口頭発表
- 大西 桂子, 永野 聖子, 藤田 大介, 矢ヶ部 太郎, 板倉 明子. ヘリウムイオン顕微鏡による表面化学分析用標準試料の経年劣化の解析. 2020年日本表面真空学会学術講演会. 2020
- SAKURAI, Makoto, NAGANO, Shoko, ONISHI, Keiko, ヨアヒム クリスチャン. Nanofabrication of gold nanogears using focused He+ beam on a sapphire surface. The 13th MANA International Symposium 2020 jointly with ICYS. 2020
- 大西 桂子, 永野 聖子. ヘリウムイオン顕微鏡像の走査電子顕微鏡像との比較. 2019年表面真空学会学術講演会. 2019
その他の文献
- Zhanwen Xiao, Mingxiang Xu, Taizo Ohgi, Keiko Onishi, Daisuke Fujita. Removal of Si(1 1 1) wafer surface etch pits generated in ammonia-peroxide clean step. Applied Surface Science. 221 [1-4] (2004) 160-166 10.1016/s0169-4332(03)00876-6
特許
- 特許第4431733号 超高真空走査型プローブ顕微鏡 (2010)
- 特許第3686948号 自己再生型カーボンナノチューブ・グラファイト混合膜の形成方法 (2005)
- 特許第3530941号 低ガス放出及び低２次電子放出材料 (2004)
所属学会
応用物理学会 日本表面科学会
第二期開発予定
第二期開発予定