Characteristics of GaN/HfSiOx interface for n-GaN/HfSiOx/Pt MOS capacitor

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前田瑛里香, NABATAME, Toshihide, 廣瀨雅史, 井上万里, OHI, Akihiko, 塩崎宏司, 清野肇, IKEDA, Naoki.

International Conference on PROCESSING & MANUFACTURING OF ADVANCED MATERIALS (THERMEC'2021). 2021年06月01日-2021年06月05日.

作成時刻: 2021-06-09 03:00:17 +0900 更新時刻: 2021-06-09 03:00:17 +0900