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低温作製したルチル構造のTi1-X(Nb/Ta)XO絶縁膜の電気特性
(The electrical properties of rutile-type Ti1-x(Nb/Ta)xO gate insulator fabricated by low temperature)

山田 博之, 生田目 俊秀, 木村 将之, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石知司.
日本金属学会2012年秋期(第151回)大会. 2012.

NIMS著者


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    作成時刻: 2017-01-08 04:31:57 +0900更新時刻: 2017-07-10 21:24:09 +0900

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