HOME > 口頭発表 > 書誌詳細低温作製したルチル構造のTi1-X(Nb/Ta)XO絶縁膜の電気特性(The electrical properties of rutile-type Ti1-x(Nb/Ta)xO gate insulator fabricated by low temperature)山田 博之, 生田目 俊秀, 木村 将之, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石知司. 日本金属学会2012年秋期(第151回)大会. 2012.NIMS著者生田目 俊秀大井 暁彦知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 04:31:57 +0900更新時刻: 2017-07-10 21:24:09 +0900