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著者名深田 直樹, 大島崇, 岡田直也, 木塚徳志, 鶴井隆雄, 伊藤俊, 陳 君, 関口 隆史, 内田紀行, 村上浩一.
タイトルレーザーアブレーションで生成されたシリコンナノ細線中のフォノン閉じ込めとドーピング
(Phonon Confinement and Doping in Si Nanowires Synthesized by Laser Ablation)
会議名IAMF/ICYS Workshop 2006
発表年2006
言語Japanese
外部での文献参照

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