HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Effect of Conduction Band Offset on Gate Leakage Current at SiO2/4H-SiC (000-1) studied by Hard X-ray Photoelectron Spectroscopyインダリ エフィ ダウィ, 山下 良之, Ryu Hasunuma, Kikuo Yamabe. SSDM2018. 2018.NIMS著者山下 良之Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2018-08-08 15:53:11 +0900更新時刻: 2018-08-08 15:53:11 +0900