HOME > 口頭発表 > 書誌詳細ダイレクト式大気圧プラズマCVD法によるGaN薄膜成長(Fabrication of GaN films by Direct Type Near-Atmospheric Plasma-Assisted Chemical Vapor Deposition)長田 貴弘, 佐久間 芳樹, 安西純一郎, 功刀俊介, 上原剛, 知京 豊裕. 2006年秋季 第67回応用物理学会学術講演会. 2006.NIMS著者長田 貴弘佐久間 芳樹知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 04:17:40 +0900更新時刻: 2017-07-10 19:42:28 +0900