酸化還元熱処理によるITO/HfO2 キャパシタのVfbシフトとITO膜の物性との関係
(Correlation between physical properties of ITO amd Vfb shift in ITO/HfO2 capacitors by redox annealing)
ゲートスタック研究会-材料・プロセス・評価の物理-(第17回). 2012.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 05:00:46 +0900更新時刻: 2017-07-10 21:15:31 +0900