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著者名SAWADA, Tomomi, NABATAME, Toshihide, YAMAMOTO, Ippei, KURISHIMA, Kazunori, ONAYA Takashi, OHI, Akihiko, ITO Kazuhiro, TAKAHASHI Makoto, KOHAMA Kazuyuki, OHISHI Tomoji, OGURA Atsushi, NAGAO, Tadaaki.
タイトルCharacteristic of TiO2/Al2O3/TiO2 capacitors with plasma-enhanced ALD RuO2 bottom electrode for DRAM
(PE-ALD法により作製したRuO2を下部電極に用いたTiO2/Al2O3/TiO2キャパシターの特性)
会議名IWDTF 2015
発表年2015
言語English
外部での文献参照

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