HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Direct observation of bias-dependence potential distribution in metal/HfO2 gate stack structures by operando hard x-ray photoelectron spectroscopy山下 良之, 吉川 英樹, 知京 豊裕. Atomic Level Characterization 2017. 2017.NIMS著者山下 良之吉川 英樹知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-11-10 22:40:18 +0900更新時刻: 2018-06-05 14:14:54 +0900