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著者名UMEZAWA, Naoto, SHIRAISHI, Kenji, 鳥居和功, Mauro Boero, CHIKYOW, Toyohiro, WATANABE, Heiji, OHNO, Takahisa, YAMABE, Kikuo, YAMADA, Keisaku, 奈良安雄.
タイトルAtomistic Behavior of Nitrogen Atoms in Hf-based High-k Gate Dielectrics: First-principles Study
会議名Seminar
発表年2005
言語English
外部での文献参照

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