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著者名宮田 典幸, Kyoko Sumita, NARA, Jun, YAMASAKI, Takahiro, Ryousuke Sano, 野平博司.
タイトルInterface Dipole Modulation in HfO2/SiO2 MOS Stack Structures
会議名2018 IEEE International Electron Devices Meeting
発表年2018
言語English

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