HOME > 口頭発表 > 書誌詳細酸化グラフェン修復過程における六方晶窒化ホウ素の触媒作用小幡誠司, 渡邊 賢司, 谷口 尚, 塚越 一仁, 斉木幸一朗. 第66回応用物理学会春季学術講演会. 2019年03月09日-2019年03月12日.NIMS著者渡邊 賢司谷口 尚塚越 一仁Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2019-06-07 03:00:20 +0900更新時刻: 2019-06-07 03:00:20 +0900