Growth mechanism and characteristics of Hf-Si-O film by PE-ALD using TDMAS and TDMAH precursors and oxygen plasma gas
AVS 65th International symposium & Exhibition. 2018年10月21日-2018年10月26日.
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作成時刻: 2018-05-09 22:11:41 +0900 更新時刻: 2018-06-05 14:20:13 +0900