HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Growth mechanism and characteristics of Hf-Si-O film by PE-ALD using TDMAS and TDMAH precursors and oxygen plasma gas生田目 俊秀, 井上 万里, 前田瑛里香, 弓削雅津也, 廣瀨雅文, Makoto Takahashi, Kazuhiro Ito, 池田 直樹, Tomoji Ohishi, 大井 暁彦. AVS 65th International symposium & Exhibition. 2018.NIMS著者生田目 俊秀池田 直樹大井 暁彦Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻 :2018-05-09 22:11:41 +0900 更新時刻 :2018-06-05 14:20:13 +0900