SAMURAI - NIMS Researchers Database

HOME > 口頭発表 > 書誌詳細

Growth mechanism and characteristics of Hf-Si-O film by PE-ALD using TDMAS and TDMAH precursors and oxygen plasma gas

生田目 俊秀, 井上 万里, 前田瑛里香, 弓削雅津也, 廣瀨雅文, Makoto Takahashi, Kazuhiro Ito, 池田 直樹, Tomoji Ohishi, 大井 暁彦.
AVS 65th International symposium & Exhibition. 2018.

NIMS著者


Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


    作成時刻 :2018-05-09 22:11:41 +0900 更新時刻 :2018-06-05 14:20:13 +0900

    ▲ページトップへ移動