HOME > 口頭発表 > 書誌詳細HfSiOx絶縁膜を用いたn-GaN MOSキャパシタの高耐圧特性(High breakdown voltage of n-GaN MOS capacitors with HfSiOx insulator)前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 弓削 雅津也, 廣瀨 雅史, 井上 万里, 大井 暁彦, 池田 直樹, 塩崎宏司, 大石知司. 第79回応用物理学会秋季学術講演会. 2018.NIMS著者生田目 俊秀弓削 雅津也大井 暁彦池田 直樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2018-06-28 16:44:26 +0900更新時刻: 2018-06-28 16:44:26 +0900