metastable atom stimulated desorption study of self-assembled monolayer resisits for nanolithography
(ナノリソグラフィーのための自己組織化単分子膜レジストの準安定原子刺激脱離法による研究)
7th international symposium on advanced physical fields. 2001年11月12日-2001年11月15日.
NIMS著者
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作成時刻: 2022-09-05 11:09:40 +0900 更新時刻: 2022-09-05 11:09:40 +0900