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情報理論を利用したコンフォーカル・ラマン顕微鏡によるSiの3次元応力分布評価
(Informatics-aided Confocal Raman Microscopy for 3D Characterization of Stress in Silicon)

著者王 洪欣, 張 晗, 達 博, Motoki Shiga, 北澤 英明, 藤田 大介.
会議名第3回内閣府SIP革新的構造材料先端計測拠点TIA-Fraunhofer合同国際シ
発表年2017
言語Japanese

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