HOME > Presentation > Detail情報理論を利用したコンフォーカル・ラマン顕微鏡によるSiの3次元応力分布評価(Informatics-aided Confocal Raman Microscopy for 3D Characterization of Stress in Silicon)王 洪欣, 張 晗, 達 博, Motoki Shiga, 北澤 英明, 藤田 大介. 第3回内閣府SIP革新的構造材料先端計測拠点TIA-Fraunhofer合同国際シ. 2017.NIMS author(s)ZHANG, HanDA, BoKITAZAWA, HideakiFUJITA, DaisukeFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-10-04 22:12:39 +0900Updated at: 2018-06-05 14:13:47 +0900