放射光X線による低温形成したHfxZr1−xO2薄膜の直方晶相同定の検討

放射光X線による低温形成したHfxZr1−xO2薄膜の直方晶相同定の検討
(Study of orthorhombic phase of low-temperature fabricated HfxZr1−xO2 thin films using synchrotron X-ray)

女屋崇, 生田目俊秀, Yong Chan Jung, Heber Hernandez-Arriaga, Jaidah Mohan, Harrison Sejoon Kim, 澤本直美, Chang-Yong Nam, Esther H. R. Tsai, 長田貴弘, Jiyoung Kim, 小椋厚志.

第68回応用物理学会春季学術講演会. March 16, 2021-March 19, 2021.

NIMS author(s)

ONAYA, Takashi
NABATAME, Toshihide
NAGATA, Takahiro

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Created at: 2021-04-16 03:00:20 +0900 Updated at: 2021-04-16 03:00:20 +0900

放射光X線による低温形成したHfxZr1−xO2薄膜の直方晶相同定の検討(Study of orthorhombic phase of low-temperature fabricated HfxZr1−xO2 thin films using synchrotron X-ray)

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放射光X線による低温形成したHfxZr1−xO2薄膜の直方晶相同定の検討
(Study of orthorhombic phase of low-temperature fabricated HfxZr1−xO2 thin films using synchrotron X-ray)