高速CWLA法による高伸張歪・高n型Ge薄膜の作製と評価
(Fabrication and Characterization of Highly Strained and Heavily Doped n-type Ge Films by High-speed CWLA)
第28回 電子デバイス界面テクノロジー研究会. 2023年02月03日-2023年02月04日.
NIMS著者
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作成時刻: 2024-01-09 03:11:16 +0900更新時刻: 2024-01-09 03:11:16 +0900