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TiN/HfxZr1−xO2/Si-MFS作製におけるSiO2界面層成長の抑制
(Suppression of SiO2 interfacial layer growth for TiN/HfxZr1−xO2/Si-MFS fabrication)

女屋 崇, 生田目 俊秀, 井上 万里, 澤田 朋実, 太田 裕之, 森田 行則.
第82回応用物理学会秋季学術講演会 / https://meeting.jsap.or.jp/. 2021.

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    作成時刻 :2021-09-25 03:01:00 +0900 更新時刻 :2021-09-25 03:01:00 +0900

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