HOME > Presentation > DetailTiN/HfxZr1−xO2/Si-MFS作製におけるSiO2界面層成長の抑制(Suppression of SiO2 interfacial layer growth for TiN/HfxZr1−xO2/Si-MFS fabrication)女屋 崇, 生田目 俊秀, 井上 万里, 澤田 朋実, 太田 裕之, 森田 行則. 第82回応用物理学会秋季学術講演会 / https://meeting.jsap.or.jp/. 2021.NIMS author(s)NABATAME, ToshihideFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2021-09-25 03:01:00 +0900Updated at: 2021-09-25 03:01:00 +0900