HOME > 公開特許出願 > 書誌詳細[公開特許出願] 負イオン照射・同時蒸着による膜形成方法とその装置2001-05-22. 特開2001140056号 (Google Patents) , 特許3610372号NIMS著者河野 健一郎武田 良彦岸本 直樹作成時刻 :2023-07-22 21:44:41 +0900 更新時刻 :2023-07-22 21:44:41 +0900
