Chemical Data Writing into Metal/oxide Interface: Characterization of Low Dimensional Interface Reactions by I-V Measurements | 研究者総覧SAMURAI - 物質・材料研究機構 (NIMS)

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金属/酸化膜界面への化学的なデーター書き込み：低次元界面反応のI-V測定による評価
(Chemical Data Writing into Metal/oxide Interface: Characterization of Low Dimensional Interface Reactions by I-V Measurements)

ISHII, Masashi, Aiko Nakao, SAKURAI, Kenji.

Mater. Res. Soc. Symp. proc. 9999-9999. 2008.

NIMS著者

石井真史

Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット

作成時刻: 2022-09-05 12:02:34 +0900更新時刻: 2022-09-05 12:02:34 +0900

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