SAMURAI - NIMS Researchers Database

HOME > その他の文献 > 書誌詳細

抵抗変化メモリ(ReRAM)における導電性パス生成機構の検討 〜第一原理分子動力学法を用いたNiOの様々な面方位の表面状態解析〜
(Study on Formative Mechanism of Conductive Path in Resistive Random Access Memory (ReRAM) -Analyses of Various NiO Surface States Using Ab Initio Calculations-)

森山拓洋, 山崎 隆浩, 大野 隆央, 岸田悟, 木下健太郎.

NIMS著者


    Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


      作成時刻: 2022-10-22 02:18:40 +0900更新時刻: 2022-10-22 02:18:40 +0900

      ▲ページトップへ移動