HOME > その他の文献 > 詳細抵抗変化メモリ(ReRAM)における導電性パス生成機構の検討 〜第一原理分子動力学法を用いたNiOの様々な面方位の表面状態解析〜(Study on Formative Mechanism of Conductive Path in Resistive Random Access Memory (ReRAM) -Analyses of Various NiO Surface States Using Ab Initio Calculations-)著者森山拓洋, 山崎 隆浩, 大野 隆央, 岸田悟, 木下健太郎. 掲載誌名電子情報通信学会技術研究報告 IEICE Technical Report 135-138出版社出版年2014言語Japanese