抵抗変化メモリ(ReRAM)における導電性パス生成機構の検討 〜第一原理分子動力学法を用いたNiOの様々な面方位の表面状態解析〜
(Study on Formative Mechanism of Conductive Path in Resistive Random Access Memory (ReRAM) -Analyses of Various NiO Surface States Using Ab Initio Calculations-)
NIMS著者
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作成時刻: 2022-10-22 02:18:40 +0900更新時刻: 2022-10-22 02:18:40 +0900