HOME > 論文 > 書誌詳細First-Principles Study of the Step Oxidation at Vicinal Si(001) Surfaces(傾斜Si(001)表面のステップ酸化に関する第一原理研究 )Byung Deok Yu, Kyoungwan Park, Hanchul Kim, Chun-Hyung Chung, Han Woong Yeom, In-Whan Lyo, Ki-jeong Kong, Yoshiyuki Miyamoto, Osamu Sugino, Takahisa Ohno. Japanese Journal of Applied Physics 45 [3B] 2144-2147. 2006.https://doi.org/10.1143/jjap.45.2144 NIMS著者Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2016-05-24 15:07:08 +0900更新時刻: 2024-03-30 02:08:08 +0900
