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著者名Byung Deok Yu, Kyoungwan Park, Hanchul Kim, Chun-Hyung Chung, Han Woong Yeom, In-Whan Lyo, Ki-jeong Kong, Yoshiyuki Miyamoto, Osamu Sugino, Takahisa Ohno.
タイトルFirst-Principles Study of the Step Oxidation at Vicinal Si(001) Surfaces
掲載誌名Japanese Journal of Applied Physics 45 [3B] 2144-2147
ISSN: 13474065 00214922
発表年2006
言語English
ESIでのカテゴリPHYSICS
DOIhttps://doi.org/10.1143/jjap.45.2144
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