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SiC film formation from fluorosilane gas by plasma CVD

著者Hiroshi Suzuki, Hiroshi Araki, Masahiro Tosa, Tetsuji Noda.
掲載誌名Journal of Crystal Growth 294 [2] 464-468
ISSN: 00220248
ESIでのカテゴリ: CHEMISTRY
出版社Elsevier BV
発表年2006
言語English
DOIhttps://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2006.07.003
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