HOME > 論文 > 書誌詳細Evolution of Quaterrylene Thin Films on a Silicon Dioxide Surface Using an Ultra-Slow Deposition Technique (超低速分子蒸着法を用いて形成したクォテリレン薄膜のシリコン酸化膜上における成長過程)Ryoma Hayakawa, Matthieu Petit, Yutaka Wakayama, Toyohiro Chikyow. The Journal of Physical Chemistry C 111 [50] 18703-18707. 2007.https://doi.org/10.1021/jp076308v NIMS著者早川 竜馬若山 裕知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2016-05-24 15:25:27 +0900更新時刻: 2025-02-12 04:46:04 +0900