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著者名Yoshiyuki Yamashita, Kazuhiro Oguchi, Kozo Mukai, Jun Yoshinobu, Yoshihisa Harada, Takashi Tokushima, Shik Shin, Naoyoshi Tamura, Hiroshi Nohira, Takeo Hattori.
タイトルSoft X-Ray Absorption and Emission Study of Silicon Oxynitride/Si(100) Interface
掲載誌名Japanese Journal of Applied Physics 46 [No. 3] L77-L79
ISSN: 13474065 00214922
発表年2007
言語English
ESIでのカテゴリPHYSICS
DOIhttps://doi.org/10.1143/jjap.46.l77
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