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著者名Ryoma Hayakawa, XueNa Zhang, Helmut Dosch, Nobuya Hiroshiba, Toyohiro Chikyow, Yutaka Wakayama.
タイトルStress Release Drives Growth Transition of Quaterrylene Thin Films on SiO2 Surfaces
掲載誌名The Journal of Physical Chemistry C 113 [6] 2197-2199
ISSN: 19327447 19327455
発表年2009
言語English
ESIでのカテゴリPHYSICS
DOIhttps://doi.org/10.1021/jp809556p
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