Stress Release Drives Growth Transition of Quaterrylene Thin films on SiO2 Surfaces

著者	Ryoma Hayakawa, XueNa Zhang, Helmut Dosch, Nobuya Hiroshiba, Toyohiro Chikyow, Yutaka Wakayama.
掲載誌名	The Journal of Physical Chemistry C 113 [6] 2197-2199 ISSN: 19327447 ESIでのカテゴリ: CHEMISTRY
出版社
発表年	2009
言語	English
DOI	https://doi.org/10.1021/jp809556p
この文献をMendeleyにインポート