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著者名N. Umezawa, K. Shiraishi, S. Sugino, A. Tachibana, K. Ohmori, K. Kakushima, H. Iwai, T. Chikyow, T. Ohno, Y. Nara, K. Yamada.
タイトルSuppression of oxygen vacancy formation in Hf-based high-k dielectrics by lanthanum incorporation
掲載誌名Applied Physics Letters 91 [13] 132904
ISSN: 10773118 00036951
発表年2007
言語English
ESIでのカテゴリPHYSICS
DOIhttps://doi.org/10.1063/1.2789392
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