Molecular modeling of low-k films of carbon-doped silicon oxides for theoretical investigations of the mechanical and dielectric properties
(誘電特性および機械強度特性の理論的解析のための炭素ドープ酸化シリコン膜の分子モデリング)
NIMS著者
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作成時刻: 2016-05-24 15:05:24 +0900更新時刻: 2024-05-02 07:45:34 +0900