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著者名N. Tajima, T. Ohno, T. Hamada, K. Yoneda, N. Kobayashi, S. Hasaka, M. Inoue.
タイトルMolecular modeling of low-k films of carbon-doped silicon oxides for theoretical investigations of the mechanical and dielectric properties
掲載誌名Applied Physics Letters 89 [6] 061907
ISSN: 10773118 00036951
発表年2006
言語English
ESIでのカテゴリPHYSICS
DOIhttps://doi.org/10.1063/1.2336273
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