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著者名Shisheng Li, Yung-Chang Lin, Xu-Ying Liu, Zehua Hu, Jing Wu, Hideaki Nakajima, Song Liu, Toshiya Okazaki, Wei Chen, Takeo Minari, Yoshiki Sakuma, Kazuhito Tsukagoshi, Kazu Suenaga, Takaaki Taniguchi, Minoru Osada.
タイトルWafer-scale and deterministic patterned growth of monolayer MoS2via vapor–liquid–solid method
掲載誌名Nanoscale 11 [34] 16122-16129
ISSN: 20403364
発表年2019
言語English
ESIでのカテゴリ
DOIhttps://doi.org/10.1039/c9nr04612g
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