Fabrication of Epitaxial In2O3(ZnO)5 Thin Films by r. f. Sputtering and Their Characterization by X-ray and Electron Diffraction | 研究者総覧SAMURAI - 物質・材料研究機構 (NIMS)

HOME > 論文 > 書誌詳細

Fabrication of Epitaxial In2O3(ZnO)5 Thin Films by r. f. Sputtering and Their Characterization by X-ray and Electron Diffraction
(In2O3[ZnO]5 エピタキシャル薄膜の合成と電子線およびX線回折による評価)

OHASHI, Naoki, 萩野剛士, SAKAGUCHI, Isao, HISHITA, Shunichi, 小松学, 竹中正, HANEDA, Hajime, 大橋直樹, 萩野剛士, 菱田俊一, 小松学, 竹中正.

JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH 558-563. 2002.

NIMS著者

Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット

作成時刻: 2016-05-24 11:45:45 +0900 更新時刻: 2018-12-15 01:28:24 +0900

▲ページトップへ移動