Effect of Incident Direction of ArF Laser to Graphite Substrates on the Formation of Photo-Chemical Vapor Deposition SiC Film. | 研究者総覧SAMURAI - 物質・材料研究機構 (NIMS)

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Effect of Incident Direction of ArF Laser to Graphite Substrates on the Formation of Photo-Chemical Vapor Deposition SiC Film.
(光CVDによりグラファイト基板上に形成したSiC膜にあたえるArFレーザ入射方向の影響.)

SUZUKI, Hiroshi, ARAKI, Hiroshi, 野田哲二, 野田哲二.

Japanese Journal of Applied Physics 32 [8] 3566-3571. 1993.

NIMS著者

鈴木裕

Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット

作成時刻: 2016-05-24 11:34:16 +0900更新時刻: 2018-12-14 23:12:15 +0900

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