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著者名A. Ishida, M. Sato, K. Ogawa.
タイトルMicrostructure of annealed Ti48.5Ni(51.5–x)Cux(x= 6.2–33.5) thin films
掲載誌名Philosophical Magazine 88 [16] 2427-2438
ISSN: 14786443 14786435
発表年2008
言語English
DOI10.1080/14786430802350694
ESIでのカテゴリMATERIALS SCIENCE
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