Selective area growth of β-Ga2O3 by HCl-based halide vapor phase epitaxy

著者	Takayoshi Oshima, Yuichi Oshima.
掲載誌名	Applied Physics Express 15 [7] 075503 ISSN: 18820786, 09538984, 18820778 ESIでのカテゴリ: PHYSICS
出版社	IOP Publishing
発表年	2022
言語	English
DOI	https://doi.org/10.35848/1882-0786/ac75c8
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