SAMURAI - NIMS Researchers Database

HOME > 論文 > 詳細

Selective area growth of β-Ga2O3 by HCl-based halide vapor phase epitaxy

著者Takayoshi Oshima, Yuichi Oshima.
掲載誌名Applied Physics Express 15 [7] 075503
ISSN: 18820786, 18820778, 09538984
ESIでのカテゴリ: PHYSICS
出版社IOP Publishing
発表年2022
言語English
DOIhttps://doi.org/10.35848/1882-0786/ac75c8
この文献をMendeleyにインポートMendeley

▲ページトップへ移動