Operando hard X-ray photoelectron spectroscopy study of buried interface chemistry of Au/InO1.16C0.04/Al2O3/p<mml:math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" display="inline" id="d1e383" altimg="si20.svg"><mml:msup><mml:mrow /><mml:mrow><mml:mo>+</mml:mo></mml:mrow></mml:msup></mml:math>-Si stacks | 研究者総覧SAMURAI - 物質・材料研究機構 (NIMS)

HOME > 論文 > 書誌詳細

Operando hard X-ray photoelectron spectroscopy study of buried interface chemistry of Au/InO1.16C0.04/Al2O3/p+-Si stacks

Ibrahima Gueye, Riku Kobayashi, Shigenori Ueda, Toshihide Nabatame, Kazuhito Tsukagoshi, Atsushi Ogura, Takahiro Nagata.

Applied Surface Science 593 153272. 2022.

https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2022.153272

NIMS著者

Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット

作成時刻: 2022-06-04 03:12:50 +0900 更新時刻: 2025-04-20 05:13:09 +0900

▲ページトップへ移動