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著者名山下 良之, 蓮沼 隆, 長田 貴弘, 知京 豊祐.
タイトルオペランド硬X線光電子分光法によるSiO<sub>2</sub>/4H-SiC界面の界面準位のエネルギー分布観測
(Direct Observation of the Energy Distribution of Interface States at SiO<sub>2</sub>/4H-SiC Interface: Operando Hard X-ray Photoelectron Spectroscopic Study)
掲載誌名表面科学 38 [7] 347-350
ISSN: 03885321 18814743
発表年2017
言語Japanese
ESIでのカテゴリ
DOIhttps://doi.org/10.1380/jsssj.38.347
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