Plasma-free dry etching of (001) β-Ga2O3 substrates by HCl gas

著者	Takayoshi Oshima, Yuichi Oshima.
掲載誌名	Applied Physics Letters 122 [16] 162102 ISSN: 00036951, 10773118 ESIでのカテゴリ: PHYSICS
出版社	AIP Publishing
発表年	2023
言語	English
DOI	https://doi.org/10.1063/5.0138736
この文献をMendeleyにインポート